5月16日，由我校科技处、校科协主办，光子所承办的西北大学创新论坛第一千六百六十九讲在长安校区物理学院201报告厅举行。浙江大学光电信息工程系匡翠方教授应邀来校作了题为“超分辨激光直写光刻技术”的报告。我校相关专业师生代表参加了报告会。

微纳米光学制造技术是当前先进制造技术的中的重要组成部分，在工业制造、科学研究、军事安全领域应用广泛。报告中，匡翠方教授回顾了光刻技术的发展历史，介绍了阻碍光刻技术分辨率提升的主要原因，重点讲述了目前突破“光学衍射极限”的先进光刻技术，以及其基本原理和当前国际、国内相关技术的最新发展动态与未来发展趋势，并展示了其团队在超分辨激光直写系统开发仪器系统以及相关产业化工作。最后，匡翠方教授讲述了其研究团队对当前光刻技术“卡脖子”技术的理解，以及在突破相关光刻技术难点时的思考和努力，并以此鼓励与会师生面对科研中的难点问题，要勤于动手，善于思考，勇于尝试，敢于挑战。

报告结束后，匡翠方教授解答了参会师生提出的有关超分辨激光直写光刻技术中的技术问题，分享了他在科研中的心得体会。